平面研磨的运动轨迹及原理
研磨驱动方式和转速比对磨粒运动轨迹的影响研究∗
摘要:针对常规平面研磨过程中磨粒运动轨迹重复性较高、研磨抛光均匀性不足的问题ꎬ引入了无理转速比概念ꎬ以进一步提升研 磨加工均匀性ꎮ建立了定偏心主驱动式和直线摆动驱动式下的轨迹数学模型ꎬ通过Matlab进行了运动学仿真ꎬ对两种驱动方式和本书针对传统平面研磨方法中存在的不足，选择*基础的研磨加工方法进行研究，从研磨原理的角度改善研磨加工质量，设计开发了双平面研磨加工机床，并进行了试验验证。. 从研 平面研磨加工机理研究——刘清 著--机械工业出版社建立了该x-y联动的平面研磨轨迹运动模型，仿真分析了初始向径、初始相位角、转速比、x-y联动轨迹等参数对研磨轨迹的影响规律；在自主研发的样机平台上开展了研磨实验研究。X-Y平面联动的平面研磨轨迹分析与研磨实验 - nwpu.cn
平面研磨轨迹的研究 - 百度文库
平面研磨轨迹的研究. 王琦. 【摘 要】以10mm以下量块工艺为例,介绍了实现平面研磨工艺要求的几种方法及研磨轨迹的特性及优缺点. 【期刊名称】《机械工程师》 【年 (卷),期 为了提高摆动固定磨料平面研磨(sfapl)的表面精度，本文研究了工件摆动方式对研磨均匀性的影响。 根据曲柄摇杆机构的运动学原理，采用坐标变换方法建立了SFAPL的运动学模型。摆动固定磨料平面研磨的运动学和轨迹分析：摆动 ...2023年12月8日 为了在自由磨料研磨过程中实现 mpcvd（微波等离子化学气相沉积）多晶金刚石晶片的卓越表面形状精度，本研究采用了基于旋转摆动驱动的平面研磨。 这项研究 基于回转摆动驱动的平面研磨磨粒轨迹仿真与实验 ...
偏摆式平面研磨抛光轨迹的理论研究
摘要: 为分析偏摆式平面研磨抛光中偏摆运动参数对研磨抛光轨迹的影响规律，建立运动轨迹模型，用轨迹非均匀性定量方法进行评价。 结果表明：偏摆幅度和偏摆角度对轨迹非均 推导了单颗磨粒相对工件的运动方程,并利用Matlab软件进行了单颗磨粒运动轨迹仿真,研究了磨粒运动轨迹形态的影响因素,定义了平面研磨轨迹均匀性的概念,建立了磨粒分布,被选考 UNIPOL-802平面研磨机研磨轨迹的研究 - 百度学术摘要：. 针对传统研磨方法的研磨轨迹覆盖均匀性等问题,开展了X-Y联动的平面研磨轨迹仿真与实验研究.建立了该X-Y联动的平面研磨轨迹运动模型,仿真分析了初始向径,初始相位角, X-Y平面联动的平面研磨轨迹分析与研磨实验 - 百度学术
